鋰離子動(dòng)力和薄膜太陽(yáng)能電池研發(fā)生產(chǎn)基地項(xiàng)目位于佛祖嶺四路以西，武漢盛華微系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)園以北，佛祖嶺三路以東，龍凈環(huán)保公司以南。

該項(xiàng)目由檢測(cè)中心下設(shè)二層地下室、1#廠房下設(shè)三層地下室組成。二層地下室基坑總面積約2630.7m2，總周長(zhǎng)約219.1m，基坑開挖深度10.30～12.10m；三層地下室基坑總面積約2.76萬(wàn)m2，總周長(zhǎng)約652.2m，基坑開挖深度17.40～18.40m。綜合考慮本項(xiàng)目巖土工程條件、周邊環(huán)境條件、開挖深度、施工要求等，二層地下室區(qū)域采用放坡+懸臂樁的支護(hù)方式；三層地下室區(qū)域采用放坡+樁撐的支護(hù)方式。